Mascarilla negra Tako Pore Sebum Ssok Ssok Peel Off Pack

Water: Base del producto, proporciona una textura adecuada y facilita la aplicación.

Polyvinyl Alcohol: Agente formador de película que ayuda a crear la textura peel-off de la mascarilla.

PVP (Polyvinylpyrrolidone): Ayuda a estabilizar la fórmula y mejorar la adhesión de la mascarilla a la piel para una efectiva eliminación de impurezas.

Silica: Absorbe sebo y grasa, proporcionando un efecto matificante.

Alcohol: Utilizado en pequeñas cantidades para ayudar a disolver otros ingredientes y mejorar la secado de la mascarilla.

Charcoal Powder: Actúa como un poderoso absorbente para eliminar toxinas, impurezas y exceso de grasa de los poros.

CI 77499 (Iron Oxides): Proporciona color a la mascarilla.

PEG-10 Dimethicone: Un surfactante suave que ayuda a emulsionar y formular el producto.

Polyquaternium-37: Agente acondicionador que suaviza la piel.

Titanium Dioxide (CI 77891): Pigmento utilizado para dar color y opacidad al producto.

Citrus Nobilis (Mandarin Orange) Peel Extract: Rico en antioxidantes, proporciona un efecto revitalizante y astringente.

Glycerin: Humectante que ayuda a retener la humedad en la piel.

Kaolin: Arcilla natural que absorbe sebo y purifica los poros.

Dipotassium Glycyrrhizate: Extracto de regaliz que calma la piel y reduce el enrojecimiento.

Butylene Glycol: Humectante que ayuda a mantener la piel hidratada.

Acacia Senegal Gum: Emoliente natural que suaviza y calma la piel.

Ethylhexylglycerin, Disodium EDTA: Conservantes que ayudan a mantener la estabilidad y la seguridad del producto.

Fragrance: Añade un aroma agradable al producto.

Sea Salt, Peat Water, Maris Sal (Sea Water): Minerales ricos que ayudan a nutrir y revitalizar la piel.

Hydroxypropyl Methylcellulose: Espesante que mejora la textura del producto.

1,2-Hexanediol: Conservante suave que mejora la vida útil del producto.

Pinus Palustris Leaf Extract, Ulmus Davidiana Root Extract, Oenothera Biennis (Evening Primrose) Flower Extract, Pueraria Lobata Root Extract: Extractos botánicos que proporcionan beneficios antioxidantes y calmantes.

Esta fórmula avanzada combina la eficacia del carbón con extractos botánicos y minerales para ofrecer una limpieza profunda y cuidado de la piel, dejándola limpia, fresca y revitalizada.

Para maximizar los beneficios de TONYMOLY Tako Pore Sebum Ssok Ssok Peel Off Pack y lograr una piel clara y libre de impurezas, sigue estos pasos en tu rutina de cuidado facial:

Preparación: Asegúrate de que tu rostro esté completamente limpio antes de aplicar la mascarilla. Recomendamos lavar tu cara con un limpiador facial suave para eliminar cualquier rastro de maquillaje, aceite o suciedad.

Aplicación: Aplica una capa uniforme y delgada de la mascarilla sobre tu rostro, evitando el área de los ojos, las cejas, el cabello y los labios. Para una aplicación más precisa, puedes usar una brocha de mascarilla facial o tus dedos limpios.

Tiempo de Actuación: Deja que la mascarilla se seque completamente, lo cual debería tomar aproximadamente 15-30 minutos. Sabrás que está lista para retirar cuando sientas que la superficie está completamente seca al tacto.

Retiro: Comienza a despegar la mascarilla lentamente desde los bordes inferiores hacia arriba. Hazlo con cuidado para minimizar la irritación y asegurarte de que se retiren todas las impurezas de los poros.

Limpieza Final: Una vez que hayas retirado toda la mascarilla, enjuaga tu rostro con agua tibia para eliminar cualquier residuo. Seca tu piel suavemente con una toalla limpia.

Cuidado Posterior: Después de retirar la mascarilla, es importante aplicar un tónico para ayudar a cerrar los poros y una crema hidratante para rehidratar la piel y mantener su equilibrio.

Frecuencia Recomendada: Para mejores resultados, utiliza la mascarilla una vez por semana. Esto ayudará a mantener tu piel limpia y libre de impurezas sin sobresecarla.

Siguiendo estos pasos, notarás cómo tu piel se vuelve más limpia, fresca y revitalizada, con una reducción significativa en la apariencia de poros y puntos negros.